Máscara de fotolitografía

Abstract

La fotolitografía (de lithos=piedra y graphos=dibujo o escritura, o sea, dibujar sobre piedra) es uno de los procesos utilizados para plasmar los patrones de los circuitos integrados en las obleas de silicio y es un proceso fundamental en la fabricación de la industria de semiconductores. Consiste en la transferencia de un patrón definido a una superficie sensible a la luz, como puede ser una oblea (un sustrato de silicio, vidrio, zafiro, etc.) que está recubierta con una capa fotosensible. Estos procesos fotolitográficos se asemejan a los procesos litográficos empleados en trabajos de impresión. Los procesos de fotolitografía incluyen varias etapas clave que se realizan de manera secuencial para definir patrones en la capa fotosensible de forma cíclica como se puede observar en la Figura 1. Por tanto, para fabricar un circuito integrado se deben realizar de forma iterativa y cíclica una serie de pasos que incluyen: Preparación del sustrato, recubrimiento, exposición o fotolitografía, revelado, grabado, procesos de fabricación (introducción de dopantes mediante difusión o implantación iónica, deposición de dieléctricos, ejecución de las metalizaciones) y lavado de fotoresina.